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我国科研团队攻克芯片散热世界难题 氮化镓功率器件有望站上风口

我国科研团队攻克芯片散热世界难题 氮化镓功率器件有望站上风口

西安电子科技大学郝跃院士团队在芯片散热技术上取得重大突破,通过创新氮化铝薄膜技术,将氮化镓功率器件的输出功率密度提升30%-40%,创下近二十年该领域最高纪录。这一进展有望显著提升5G/6G通信、卫星互联网等产业的器件性能,同时推动数据中心向800V直流供电转型,带动氮化镓和碳化硅功率半导体市场需求增长。

2026-01-19 17:42
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